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真空加熱盤+水冷盤真空加熱器 我們的定制多功能系列提供完整的服務，為您提供任何應用所需的工具。 |
真空加熱器概述
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在圣柏林，我們為薄膜沉積和樣品處理的研究和工業提供經濟高效、高均勻性的晶圓加熱器、真空加熱器和樣品加熱器。我們的樣品加熱器可配備固定器或夾子，以固定一系列半導體晶圓或樣品。 所有加熱器均經過全面測試。我們的內部測試能力包括氦泄漏檢查、使用真空測試系統的全溫度測試以及使用 FLIR 熱像儀的均勻性測試。圣柏林已通過 ISO 9001 認證。 |
圣柏林設計團隊與客戶密切合作，提供：
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CHUCK基板真空加熱器
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特征
- 標準直接接觸式樣品加熱器可用于 1 英寸（25.4 毫米）至 6 英寸（152.4 毫米）熱區的樣品尺寸。特殊設計可提供更大尺寸
- 燈加熱器適用于輻射加熱應用
- 適用于高真空、特高壓、氧氣、空氣和腐蝕性環境的配置
- 標準元件材料為鉻鎳鐵合金、鎳鉻合金(NiCr)、碳碳復合材料(CCC)、純碳化硅 (SiC 3 ) CVD 涂層石墨和鎢
- 標準溫度高達 1600°C（可根據要求實現更高溫度）
- 快速爬坡且高效
- 配有合適的內部熱電偶來測量控制溫度
- 獨立式、螺柱安裝或法蘭安裝
- 完整系統的基本要素
- 樣品加熱區域均勻性良好（<±2%）。超高均勻度范圍（<±1%）
- 可采用水冷來最大程度地減少腔室的熱負荷
- 可根據要求提供更大尺寸和不同形狀
- 完全可定制，提供完整的定制解決方案
- 可在需要旋轉、Z 軸移動和 RF 或 DC 偏置的地方安裝載物臺
- 包括真空和空氣側電纜組件
- 在英國制造和測試
致力于質量
所有加熱器均經過全面測試。我們的內部測試能力包括氦泄漏檢查、使用真空測試系統的全溫度測試以及使用 FLIR 熱像儀的均勻性測試。圣柏林已通過 ISO 9001:2015 注冊。
樣品加熱臺
圣柏林為所有薄膜沉積系統應用提供全系列的樣品加熱熱臺。加熱器和樣品可以以任何方向安裝，圣柏林 系列操縱器為樣品旋轉、加熱器旋轉、樣品轉移和樣品/加熱器定位提供了經濟高效的選項。
樣品加熱臺可提供高達 1000W 的樣品偏置（射頻或直流），并配有溫度控制器和電源。對于具有射頻偏置的加熱器和平臺，可以提供全屏蔽和電源/熱電偶線路濾波。水冷式加熱器可配備冷水機。
定制
圣柏林 專門為使用標準加熱器和平臺無法實現的加熱應用提供定制解決方案。圣柏林 設計團隊與客戶密切合作，提供：
- 專業管理的項目
- 盡可能使用標準 圣柏林 組件和組件的經濟高效的解決方案
- 詳細的技術圖紙和書面規格
- 3D CAD 模型（如果需要）
- 經過全面測試并可與您的系統集成的加熱解決方案
詳細安裝、規格和操作說明的手冊
溫度控制器
使用溫度控制器，可以根據規格要求定制基板加熱，為化學氣相沉積系統制備薄膜。
客服1