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于2012年，專注大中型企業電熱產品生產國家專利技術 產品質量有保障
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背景

原子層沉積 (ALD) 市場的一家半導體設備公司聯系圣柏林，尋求定制高溫加熱器解決方案。他們的應用涉及使用一系列不同化學過程的薄膜沉積。重復這些過程會導致薄膜緩慢沉積。

要求

  • 溫度<700°C
  • 內部元件必須能夠承受 700°C 以上的溫度
  • 法蘭和底座之間的熱斷裂減少了法蘭區域的熱傳遞
  • 300 系列不銹鋼底座、套筒和法蘭必須符合所有所需的真空規格
  • 240 伏 1450 瓦
  • 內部元件內內置“K”型熱電偶，通過射頻屏蔽接地

結果

圣柏林 生產了一種高效的高溫加熱器，具有出色的均勻性。該設計能夠充分壓縮內部元件，以實現最佳的溫度傳遞。底板外周周圍的焊縫和 (3) 個提升銷孔支座對于真空完整性、升溫速率和溫度穩定性的設計至關重要。

 

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